一項(xiàng)開發(fā)中的新計(jì)算機(jī)芯片石版印刷技術(shù)，已經(jīng)不只是如先前所想那樣有可能成功，而是前景非常樂(lè)觀。

羅徹斯特理工學(xué)院（RIT； NY， USA； www.rit.edu）Kate Gleason工程學(xué)院的納米印刷技術(shù)研究中心主任、電子工程學(xué)教授Bruce Smith博士開發(fā)了一種稱之為易逝波石版印刷術(shù)（EWL）的方法，這種方法可以在目前為止最小的半導(dǎo)體裝置上進(jìn)行成像。按Smith博士的說(shuō)法，Yongfa Fan，RIT微體系工程博士計(jì)劃的一位博士生，完成了這個(gè)小到只有26nm的成像，這種尺寸目前只用于超紫外波長(zhǎng)。超過(guò)傳統(tǒng)物理學(xué)的極限來(lái)獲得圖像，這個(gè)進(jìn)步使得對(duì)小于二十分之一個(gè)可見(jiàn)光波長(zhǎng)有了解決方法，他補(bǔ)充道。

如果以國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖（http://public.itrs.net）作為參照，這項(xiàng)技術(shù)的出現(xiàn)至少比預(yù)期提前了五年，按照Smith博士的說(shuō)法。這個(gè)路線圖是由工業(yè)集團(tuán)協(xié)會(huì)、政府組織、大學(xué)、制造商和供應(yīng)商共同創(chuàng)立的，該路線圖評(píng)估了半導(dǎo)體業(yè)的技術(shù)需求，以保證集成電路性能的進(jìn)步可以滿足未來(lái)的需要。

“浸漬石版印刷術(shù)已將光學(xué)成像技術(shù)推到了極限”，Smith博士評(píng)論道。“易逝波石版印刷技術(shù)使得將來(lái)這項(xiàng)研究可以繼續(xù)很好地延續(xù)，在以前不敢想象的圖像形成的那一時(shí)刻，這一結(jié)果非常令人興奮。”

按Smith博士的說(shuō)法：易逝波石版印刷術(shù)是一種“基礎(chǔ)關(guān)鍵技術(shù)”，它可以讓我們更好地理解如何制造標(biāo)準(zhǔn)部件，以供將來(lái)的微電子和納米技術(shù)裝置使用。在2006年2月21日于圣何塞市（CA， USA）舉行的2006年微石版印刷技術(shù)研討會(huì)上，Smith博士將會(huì)公布這項(xiàng)研究。該研討會(huì)由國(guó)際光學(xué)工程協(xié)會(huì)發(fā)起舉行。

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